SiC MOSFET的短沟道效应 (mos晶体管的短沟道效应是指什么)
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Fig.1:不同制造商VSiCMOSFET的VGS(th)曲线,Infineon-沟槽,M1-沟槽,M2-平面DIBL效应和栅极电荷由于上述的DIBL效应,与IGBT相比,SiCMOSFET的输出特性看起来有所不同。在相同VGS条件下,器件的饱和电流随VDS上升而上升。见图2。图2:mΩ、VSiC沟槽MOSFET在°C时不同VGS下的输出特性曲线。该特性是在短路状态下,通过非常短的脉冲测量的,并在考虑到测量期间温度上升的情况。硅IGBT通常使用更长的反型沟道,沟道电阻对静态损耗来说是次要的。阻断状态下的电场较小,因此,DIBL效应较低,饱和电流不会随DS电压上升而变化太大。下图(左)是IGBT的输出特性曲线,可以看到,线性区和饱和区之间的分界点很清楚,曲线进入饱和状态之后的部分非常平坦,而SiCMOSFET的分界点则没那么明显,即使进入饱和状态,电流曲线仍有一定斜率的上升。