H桥电机驱动电路解析 (h桥电机驱动电路图)
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2.PCB3D图三、辅助电路部分讲解本驱动模块默认采用7.4V的锂电池组接入右侧的P1端子进行供电。1、BOOST升压电路BOOST升压电路采用的是MC这款芯片。此模块主要是将7.4V的输入电压升到V后为后面的IRS半桥驱动芯片供电(需要V的原因将在下面介绍)。此芯片的工作原理在此不多做介绍,可自行下载数据手册进行学习。注意事项:(1).此BOOST电路模块是此驱动板中较为容易出问题的部分,因此*时需要先对其进行*调试,确认没有问题后再进行后续的*。(2).此电路需要尤其注意0.Ω的精密电流检测电阻,如果电阻质量不合格很容易出现问题,导致电路不能正常工作。2、降压稳压电路降压稳压电路采用的是MIC这款LDO芯片。此电路模块将7.4V的输入电压降压稳压到3.3V给后面的LVC芯片供电。类似芯片较多,使用也较为简单。3、隔离电路部分在设计电机驱动板时,很多都会有一个用于隔离的电路模块。主要用于将*与H桥驱动电路隔离开,防止损坏*。此电机驱动板采用了lvc这款三态输出的收发器芯片作为隔离芯片。也可以使用HC(三态四线非反相缓冲器)或HC(三态八线非反相缓冲器)。具体使用说明可参考相应的数据手册。四、搭建的H桥驱动电路详解1、简介在学习此部分之前,需要先掌握基础H桥驱动的工作原理,具体可参看此篇博客:电机驱动芯片(H桥、直流电机驱动方式)自行搭建的H桥驱动电路一般都包括两个部分:半桥/全桥驱动芯片和MOS管。自行搭建的H桥驱动所能通过的电流几乎由MOS管的导通漏极电流所决定。因此,选择适当的MOS管,即可设计出驱动大电流电机的H桥驱动电路。2、NMOS管IRLR在选择MOS管搭建H桥时,主要需注意以下一些参数:1.漏极电流(Id):该电流即*了所能接入电机的最大电流(一般要选择大于电机堵转时的电流,否则可能在电机堵转时烧毁MOS管),LR的最大漏极电流为A左右,完全可以满足绝大部分电机的需要。2.栅源阈值电压/开启电压(Vth):该电压即MOS管打开所需的最小电压,也将决定后续半桥驱动芯片的选择和设计(即芯片栅极控制脚的输出电压)。LR的最大栅源阈值电压为2.3V。3.漏源导通电阻(Rds):该电阻是MOS管导通时,漏极和源极之间的损耗内阻,将会决定电机转动时,MOS管上的发热量,因此一般越小越好。LR的漏源导通电阻为3.3mΩ。4.最大漏源电压(Vds):该电压是MOS管漏源之间所能承受的最大电压,必须大于加在H桥上的电机驱动电压。LR的最大漏源电压为V。满足7.4V的设计需要。3、半桥驱动芯片IRS在H桥驱动电路中,一共需要4个MOS管。而这四个MOS管的导通与截止则需要专门的芯片来进行控制,即要介绍的半桥/全桥驱动芯片。所谓半桥驱动芯片,便是一块驱动芯片只能用于控制H桥一侧的2个MOS管(1个高端MOS和1个低端MOS,在前述推荐的博客中有介绍)。因此采用半桥驱动芯片时,需要两块该芯片才能控制一个完整的H桥。相应的,全桥驱动芯片便是可以直接控制4个MOS管的导通与截止,一块该芯片便能完成一个完整H桥的控制。这里使用的IR便是一款半桥驱动芯片,因此在原理图中可以看到每个H桥需要使用两块此芯片。1、典型电路设计(来源于数据手册)2、引脚功能(来源于数据手册)VCC为芯片的电源输入,手册中给出的工作电压为~V。(这便是需要boost升压到V的原因)IN和SD作为输入控制,可共同控制电机的转动状态(转向、转速和是否转动)。VB和VS主要用于形成自举电路。(后续将详细讲解)HO和LO接到MOS管栅极,分别用于控制高端和低端MOS的导通与截止。COM脚直接接地即可。3、自举电路此部分是理解该芯片的难点,需要进行重点讲解。从上面的典型电路图和最初的设计原理图中均可发现:该芯片在Vcc和VB脚之间接了一个二极管,在VB和VS之间接了一个电容。这便构成了一个自举电路。作用:在高端和低端MOS管中提到过,由于负载(电机)相对于高端和低端的位置不同,而MOS的开启条件为Vgs>Vth,这便会导致想要高端MOS导通,则其栅极对地所需的电压较大。补充说明:因为低端MOS源极接地,想要导通只需要令其栅极电压大于开启电压Vth。而高端MOS源极接到负载,如果高端MOS导通,那么其源极电压将上升到H桥驱动电压,此时如果栅极对地电压不变,那么Vgs可能小于Vth,又关断。因此想要使高端MOS导通,必须想办法使其Vgs始终大于或一段时间内大于Vth(即栅极电压保持大于电源电压+Vth)。首先看下IRS的内部原理框图(来源于数据手册)。此类芯片的内部原理基本类似,右侧两个栅极控制脚(HO和LO)均是通过一对PMOS和NMOS进行互补控制。自举电路工作流程图:以下电路图均只画出半桥,另外一半工作原理相同因此省略。假定Vcc=V,VM=7.4V,MOS管的开启电压Vth=6V(不用LR的2.3V,原因后续说明)。(1).第一阶段:首先给IN和SD对应的控制信号,使HO和LO通过左侧的内部控制电路(使上下两对互补的PMOS和NMOS对应导通),分别输出低电平和高电平。此时,外部H桥的高端MOS截止,低端MOS导通,电机电流顺着②线流通。同时VCC通过自举二极管(①线)对自举电容充电,使电容两端的压差为Vcc=V。(2).第二阶段:此阶段由芯片内部自动产生,即死区控制阶段(在H桥中介绍过,不能使上下两个MOS同时导通,否则VM直接通到GND,短路烧毁)。HO和LO输出均为低电平,高低端MOS截止,之前加在低端MOS栅极上的电压通过①线放电。(3).第三阶段:通过IN和SD使左侧的内部MOS管如图所示导通。由于电容上的电压不能突变,此时自举电容上的电压(V)便可以加到高端MOS的栅极和源极上,使得高端MOS也可以在一定时间内保持导通。此时高端MOS的源极对地电压≈VM=7.4V,栅极对地电压≈VM+Vcc=.4V,电容两端电压=V,因此高端MOS可以正常导通。(此时,自举二极管两端的压差=VM,因此在选择二极管时,需要保证二极管的反向耐压值大于VM。)注意:因为此时电容在持续放电,压差会逐渐减小。最后,电容正极对地电压(即高端MOS栅极对地电压)会降到Vcc,那么高端MOS的栅源电压便≈Vcc-VM=V-7.6V=4.4V标签: h桥电机驱动电路图
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