思锐智能携旗下Beneq品牌亮相CIOE2021,探索从微观到宏观层面的ALD光学应用创新 (思锐信息技术有限公司)
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图1:SRII旗下品牌BENEQ亮相光博会,展示光学领域的ALD创新应用图2:思锐智能总经理聂翔在展会现场接受央视媒体采访加速“ALD光学镀膜”扩产步伐,SRII产学研布局促进行业发展众所周知,稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能的要求,典型光学薄膜的膜层厚度均匀性要求在1%左右。以大直径球型光学透镜的镀膜为例,思锐智能副总经理陈祥龙指出:“通过使用BeneqPAALD设备在球型透镜表面镀膜的测试,在批量生产中,经过全方位角度测量,所有镀膜样品的薄膜不均匀性仅为1.2%,这在业界属于非常领先的一项基准。”与此同时,SRII面向光学领域持续拓展生态合作版图——SRII携手浙江大学光学与光电子薄膜研究所正式签订战略合作协议,基于公司PA系列设备共建联合实验室,用于技术开发和应用创新,促进产学研合作、助力国内半导体和先进光学等相关行业的高速发展。图3:思锐智能ALD光学镀膜解决方案引起业界人士围观实际上,BeneqP系列设备是专为工业规模生产设计的原子层沉积*,包括PA、P以及最新的P等多个型号,均搭载高容量反应器,克服了同类ALD设备的沉积速率慢、不兼容大尺寸产品、难以大规模生产等局限,是从研发阶段到大规模工业化生产的理想工具,可用于光学镀膜、半导体设备零部件镀膜、以及OLED和电子器件的防潮镀膜等当下前沿的应用市场。此外,P系列设备还支持定制反应腔的配置选项,适用于各种基底;而且反应腔易于更换,从而最大限度减少了因维护造成的停机时间。