碳化硅MOSFET尖峰的抑制 (碳化硅mosfet结构)
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图1图示尖峰产生时的振铃电流路线图1由HS(Highside)和LS(Lowside)的开关元件组成的半桥结构。当LS元件TurnON时,开关电流IMAIN流动的情况。这个IMAIN通常从Vs流入再通过配线电感LTRACE。当LS元件TurnOFF时,在LTRACE流动的IMAIN通常会通过接在输入电源HVdc-PGND之间的Bulk电容CDC,经由HS元件和LS元件的寄生电容如图中虚线所示流动。此时,在LS侧漏极源极之间LTRACE和MOSFET的寄生电容COSS(CDS+CDG)之间发生谐振现象,在漏极源极之间产生尖峰。VDS_SURGE:尖峰的最大值VHVDC:HVdc端的电压ROFF:MOSFETTurnOFF时的电阻如图2HVdc电压为V时,VDS_SURGE为V,振铃频率约为MHz。使用方程式(1)根据该波形计算出LTRACE约nH。图2TurnOFF电压尖峰波形下面在电路中添加图3所示的缓冲电路CSNB,这个时候电压尖峰降低了V以上(约V),振铃频率也变大为.6MHz,由图4可知,包含CSNB在内的电路网中的LTRACE变小了。同样,使用式(1)可算出LTRACE约为nH。图3CSNB缓冲电路图4CSNB缓冲电路减小TurnOFF尖峰电压一般需要线路布局设计为配线电感最小化,但通常优先考虑的是元件的散热设计,因此布线设计不一定理想。因此通过尽可能在开关装置附近布置缓冲电路,以形成旁路电路,将电压尖峰产生的源头——布线电感最小化,还可以吸收积蓄在布线电感中的能量。这样就可以将开关元件的电压钳位住,缩小TurnOFF电压尖峰。缓冲电路的种类缓冲电路分为由电阻、线圈和电容器等被动部件组合的电路,和包含半导体元器件的主动电路。a.CSNB缓冲电路b.RC缓冲电路c.RCD缓冲电路d.非放电型RCD缓冲电路为了更好地发挥其的效果,必须将这些缓冲电路尽可能布局在在开关元件的附近。a.CSNB缓冲电路零件数目少,但必须连接到桥式结构的上部和下部之间,因此缺点是线路会变得较长,因此通常不是用分立元器件,而是多用2合1的分立元器件模块。b.RC缓冲电路可在各开关元件附近能布局缓冲电路,不过,必须确保每次元件TurnON时CSNB中积存的全部能量均由RSNB消耗掉。因此,当开关频率变高时,RSNB所消耗的电力可能会变为数W,而CSNB很难很大,所以抑制尖峰的效果也会变得有限。此外,RSNB的尖峰吸收能力有限,因此抑制效果也会受限。c.RCD缓冲电路的RSNB消耗的电力与(b)相同,但因为只经由二极管吸收尖峰,比起(b)的吸收效果高、更实用。但是,需要注意使用的二极管的恢复特性,因为吸收尖峰时的电流变化大,需要极力减少缓冲电路的配线电感。另外,如果将RSNB与CSNB并联,在动作上也是相同的。d.非放电型RCD缓冲电路的RSNB只消耗CSNB所吸收的电压尖峰能量,CSNB所积蓄的能量不会每次开关都充分释放出来。因此,即使开关频率加快,RSNB的消耗功率也不会变得很大,可以将CSNB增大,大幅提高电路的抑制效果。但样线路布局变得复杂,如果不是4层以上的基板,布线会极为困难。如上所述,这里介绍的缓冲电路各有长短,需要根据电源电路结构和转换功率容量选择最佳的缓冲电路。缓冲电路的设计方法1.图5所示的缓冲电路是通过CSNB吸收LTRACE积蓄的能量。因此,在缓冲电路中形成的LSNB必须比LTRACE小。由于CSNB中积蓄的能量基本不放电,静电容量越大电压尖峰抑制效果变好,但使用的电容器的等价串联电感(ESL)也必须考虑到LSNB中。一般来说,电容器的尺寸越大ESL越大,在选择静电容量时要注意。图5CSNB缓冲电路为了将LTRACE中积蓄的能量全部用CSNB吸收,需以算式(2)所示静电电容为依据选定电容。(2)2.RC缓冲电路的设计图6所示为RC缓冲电路动作时的电流路径与CSNB缓冲电路一样:图6RC缓冲电路CSNB的数值由算式(2)决定,而RSNB的参考值根据算式(3)求得。(3)fSW:开关频率VSNB:放电缓冲电压(VDS_SURGE的0.9倍)决定RSNB之后,以算式(4)计算出RSNB的消耗功率,选定功率满足要求的电阻。(4)对于RC缓冲电路,算式(4)追加了第二项,因为fSW或VHVDC越高RSNB所消耗的电力越大,PSNB太大导致电阻选定困难时,必须降低CSNB的静电容量值重新计算。另外,为了RC缓冲电路充分吸收电压尖峰,RSNB和CSNB的谐振频率ωSNB必须比电压尖峰的谐振频率ωSURGE低很多,需要结合算式(5)所示的RC缓冲电路的谐振频率ωSNB来确认。(5)3.放电型RCD缓冲电路的设计放电型RCD缓冲电路的设计基本上与RC缓冲电路相同。只是由于是通过二极管吸收的尖峰,所以不需要通过算式(5)确认谐振频率。并且,二极管必须选定为恢复电流小的型号。4.非放电型RCD缓冲电路的设计非放电型RCD缓冲电路与放电型RCD缓冲电路不同,RSNB消耗的电力仅限于电压尖峰的能量,用于抑制容许损失的RSNB的选择范围很广。因此可以增大CSNB的静电容量,提高钳位的效果。CSNB由算式(2)决定,RSNB由算式(3)决定,而RSNB的消耗功率由算式(6)决定,没有算式(4)中包含CSNB及fsw的第二项。因此,由CSNB或fsw产生的消耗功率增加基本没有,能选择大的静电容量的CSNB,不仅仅缓冲电路的钳位效果更好,还能对应fsw的高频化。(6)图8所示为非放电型RCD缓冲电路动作时的放电路径。因为上臂的尖峰朝向PGND、下臂的尖峰朝向HVdc,放电流经由RSNB流动,不那么受线路电感影响。另一方面,连接到MOSFET的漏极源极之间的布线电感LSNB因为电流变化大,电感值需要尽量小。图8非放电型RCD缓冲电路动作时的放电路径封装不同而造成的电压尖峰差异最后说明的是,TurnOFF尖峰根据封装的不同而有差异。图9是SiCMOSFET的代表性封装,(a)是被广泛采用的TO--3L,(b)是近几年渐渐扩大采用的用于驱动电路的源极端子(即所谓的开尔文接法)的TO--4L。4L型与3L型相比,改变了驱动电路路径,使开关速度加快。由于这个原因,TurnON电压尖峰和TurnOFF电压尖峰变得更大。图为3L类型和4L类型的TurnOFF电压尖峰的对比波形。VDS=V、RG_EXT=3.3Ω、ID=A时的TurnOFF波形,漏极源极间电压尖峰3L类型为V,而4L类型则为V。图如上所述,桥式电路中的MOSFET的栅极信号在MOSFET之间相互关联、动作,并在栅极源极之间产生预料之外的电压尖峰,其抑制方法需要考虑基板的线路布线,根据情况不同采取不同的对应。