FS场终止型IGBT结构与原理
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因为背部的P型发射区在场终止FSIGBT中效率不高,相对低掺杂的N区可以作为场终止层,这样也可以尽可能降低对背面发射区的影响。如前文所述,场终止层为了能够截止电场,掺杂的浓度必须合适。通常场终止层的掺杂浓度在~cm-3之间,而PTIGBT缓冲层的掺杂浓度还要高一个数量级。N-型衬底和场终止层设计决定了FSIGBT的开关特性,比如电场开始渗入到场终止层的初始阻断电压。低压时,电场在N-基型衬底已经减小到零,半导体中存在足够的载流子来形成一定的拖尾电流。随着电压的逐步升高,电场开始扩展到N-,最后达到场终止层。因而,关断时形成拖尾电流的载流子数目越来越少。随着拖尾电流的降低,关断损耗通常比较小。在击穿电压之前,IGBT几乎没有拖尾电流,表现出硬关断(snappyturn-off)特性。FSIGBT和NPTIGBT一样具有正温度系数。